單壁碳納米管生長爐

單壁碳納米管氣相沉積（CVD）系統

公司主要產品有:高溫箱式爐、管式爐、坩堝升降爐、快速退火爐、真空熔煉爐、真空鎢絲爐、真空碳管爐、真空熱壓爐、碳化硅晶體生長爐、碳化硅外延爐、單壁碳納米管專用制備爐等，并可根據客戶需求定制各種非標設備，以滿足航天、研究所和工廠企業的需求。

現行業關注的單壁碳納米管生長爐主要用于單壁碳納米管生長制備。采用一體式設計，單套為2根碳化硅管，可集成為多管反應區域，實現量產目標。整機采用防爆不銹鋼真空腔體結構，爐體左側、頂側及料倉均設有水冷層，流線型外觀，斷熱式結構。采用硅碳棒為加熱元件，隔熱保溫采用技術成型的氧化鋁多晶纖維，搭載高精度溫控儀表回路，控溫精準。

設備配有2套氣路系統，與反應爐管一一對應，每套氣路系統均可獨立控制。每套氣路均配有碳源氣體、還原氣體及載氣共計三路氣體質量流量計，每路氣體流量獨立調節，可混氣預加熱，控制精準。

設備配有真空系統，升溫前可通過對爐體抽真空、充惰性氣體的洗爐方式快速完成生產氛圍的置換，確保設備安全運行。

設備產能：單壁碳納米管，可實現連續化生產；

雙層防爆設計殼體，關鍵部位設水冷層，安全性能高，設備表面溫度為環境溫度+20℃以下，有效降低熱量對環境的影響；

配置有連續卷料裝置，滿足連續化需求，并應客戶要求持續改進；

配有2套氣路系統，與反應爐管一一對應，每套氣路系統均可獨立控制。每套氣路均配有碳源氣體、還原氣體及載氣共計三路氣體質量流量計，每路氣體流量獨立調節，控制精準。

配有旋片式真空泵，抽速4L/S，真空度壓力可至-50kPa以下，快速完成氛圍置換；

配備安全聯鎖系統，設置氫氣報警系統，有效保證操作人員和設備安全。

實現從前端生長到后端制漿的整套流水工藝,并可根據客戶需求設計相應產線。

單壁碳納米管生長爐設備特色

高質量單壁碳納米管生長

不停機連續收料、取料

獨特雙反應管系統

工業級防爆設計,適用于甲類廠房

長時間連續化生產,無需頻繁停機

多重安全保護機制，多點氧含量檢測、超溫報警、斷偶保護、水壓不足保護、氣壓過大保護、氣體泄漏保護（配置危險氣體報警系統）、漏電保護等，保證生產過程安全。