臭氣凈化裝置

可應用化學洗滌方法處理臭味物質包括有機硫化合物、含氮化合物、有機酸、含氧碳氫化合物，含鹵化物等廢棄物質。適用于污水垃圾處理、食品、石油、化工、制藥等行業。

（一）化學洗滌除臭設備

常用的化學洗滌設備為填充塔，化學吸收液從塔頂往下噴淋，廢氣向上流，臭氣與吸收液充分接觸、反應而被去除。吸收液與廢棄流量比例（液/氣比）一般為1-3L/m3，填料高度一般為2-5米，氣流空塔流速一般為0.5-1米/秒。操作良好之填充他，除臭效果可達到90%以上。

（二）化學吸收劑

常用之化學吸收劑包括下列幾種：

（1）化學吸收劑

堿性吸收液常用含有1-10%之溶液，對消除硫化氫很有效，其它如甲硫醇、硫化甲基、二硫化甲基、低級脂肪酸等經常在廢水處理廠造成臭味之物質，此法可獲得甚佳處理效果。

（2）酸性溶液

酸液洗滌主要用于消除由氨、三甲胺等堿性氣體所致臭味，一般多用于硫酸（0.5-5%之溶液）為洗滌液。

（3）次氯酸鈉溶液

次氯酸鈉一般與酸堿性吸收液一起使用，對于其它方法很難消除之硫化甲基，使用次氯酸鈉吸收液之控制效果甚佳。處理水場高濃度臭氣時，次氯酸鋼溶液濃度（有效氯濃度）約為500-2000ppm；而處理較低濃度臭氣時，使用次氯酸鈉溶液濃度約50-500ppm。以各項氧化劑之性能而言，次氯酸鈉便宜，效果亦不錯，故常使用。

在溶液中之次氯酸鈉系以次氯酸（HOCI形勢存在）

NaOCI+H2O     HOCI+NaOH……

在ph=7.5，次氯酸鈉溶液之有效氯以50%HOCI和次氯酸根離子（OCI—）存在。在ph=10，只有0.3%有效氯以HOCI存在，在ph=1或12、，HOCI幾乎解離成無之次氯酸根離子，因此ph值控制很重要。